德国Hellma CaF2 氟化钙193nm单晶圆 晶体取向111用于高精度光学

透射波段：130nm–8μm（深紫外→中红外）

193nm 透过率：内部 > 99.6%/cm，面镀膜后 > 99.8%

折射率：n₁₉₃≈1.434；阿贝数 95.23（极低色散，消色差）

应力双折射：≤0.5nm/cm（高均匀性，≤0.5ppm）

激光损伤阈值：>10J/cm²（193nm，高抗激光老化）

尺寸：单晶最大 φ250mm，多晶 φ440mm；厚度≤150mm 可定制

晶向：<111>（标准）、<100 > 或随机取向

表面质量：超精抛光 Ra≤0.5nm；可镀增透 / 抗激光膜

德国Hellma CaF2 氟化钙193nm单晶圆 晶体取向111 

半导体 DUV 光刻（核心应用）

准分子激光光源窗口：作为 193nm ArF 激光器输出 / 谐振腔窗口，承受高能量激光辐照，高透过率与高损伤阈值保障光源能量稳定输出，避免窗口老化导致的光斑畸变。

照明系统匀光元件：用于光束整形镜、中继镜，将激光均匀化、准直化；超低应力双折射保障照明光束偏振一致性与能量均匀性，消除掩模版成像阴影与畸变。

投影物镜核心镜片：超低色散校正色差，极低双折射消除偏振像差，高均匀性保障波前精度，实现纳米级线宽成像，直接决定芯片制程良率。

 高功率激光系统

适配 193nm/248nm 准分子激光器、1064nm/532nm 高功率固体激光器，用作真空隔离窗口、激光谐振腔镜、光束传输组件。<111> 晶向的低吸收、高损伤阈值特性，确保激光系统长期稳定运行，广泛应用于激光加工、科研仪器、医用激光（如光学相干断层成像）等领域。

天文与空间光学

凭借低色散、低应力双折射、抗高能辐射、宽温适应性优势，用于高分辨率天文望远镜物镜、空间相机光学元件、卫星载荷窗口。在太空极端环境下，可保持光学性能稳定，减少光线散射与色差，提升深空探测信号传输完整性，支撑宇宙探索与对地观测。

精密光谱分析

作为傅里叶变换红外（FT‑IR）分束器、紫外‑可见分光光度计窗口、拉曼光谱仪元件，130nm–8μm 超宽透光波段可简化仪器光路设计；低荧光特性避免背景干扰，适配高精度光谱检测与分析场景。

德国Hellma CaF2 氟化钙193nm单晶圆 晶体取向111