193nm ArF准分子激光作为深紫外核心光源,广泛应用于半导体光刻、精密微加工、深紫外检测等高端领域。激光谐振腔作为激光器的核心振荡单元,其腔镜基底材料的光学性能、抗辐照稳定性、热学特性直接决定激光器的光束质量、功率稳定性与长期服役寿命。在高重频、高能量密度的腔内振荡工况下,传统熔融石英材料存在深紫外吸收高、易产生色心缺陷、激光损伤阈值低等问题,常规氟化钙晶体因晶向选型不当、晶格应力缺陷,易引发腔内偏振畸变、光束抖动等故障。
德国Hellma Materials依托百年深紫外晶体研发制造经验,传承经典光刻级晶体制备工艺,采用高纯单晶生长技术制备111晶向氟化钙单晶,专为193nm ArF激光谐振腔工况优化,具备超低双折射、极低深紫外吸收、强抗激光辐照老化、低热畸变等特性,是高端193nm准分子激光谐振腔镜片的核心优选基底材料。
IC 光刻:制造设备
| 典型尺寸 | 直径最大 350 mm,厚度最大 80 mm |
|---|---|
| **波长** | 248 nm | 193 nm | 157 nm |
| **每 10 mm 样品厚度的内透过率 [%]** | > 99.8 | > 99.7 | > 99.4 |
| **折射率均匀性 PV @ 633 nm [ppm]** | 1 - 15(取决于直径) |
| **应力双折射 PV @ 633 nm [nm/cm] *** | 1 - 20 |
气泡、夹杂物 (ISO 10110-3)
1/1 x 0.063(典型值)
IC 光刻:准分子激光器及光束传输系统
| 典型尺寸 | 圆片:直径最大 100 mm / 厚度最大 30 mm 棱镜:边缘长度最大 100 mm |
| **特性参数** | 参见上表:光刻制造设备 |
| **激光耐久性** | Hellma Materials 提供具有最高要求激光耐久性的材料,并通过内部分级方法进行分类。除体材料特性外,激光耐久性还取决于表面质量(随着激光能量增加)以及激光器操作条件。 |
| **激光耐久性分级** | LD-A:卓越级 LD-B:高级 LD-C:优级 LD-D:标准级 |
上述每个等级均可提供适应具体应用需求的合格长期激光耐久性。请明确应用波长、能量密度、重复频率、脉冲宽度和脉冲数量。
| 激光损伤阈值 @ 193 nm | 约 7 J/cm²(效应:表面缺陷、烧蚀) |
非光刻应用:激光与成像光学
| 典型尺寸 | 直径 100 mm,厚度 30 mm |
| **最大尺寸** | 直径最大 440 mm,厚度最大 80 mm |
| **可用等级** | UV 级:193 - 400 nm VIS 级:400 - 780 nm IR 级:0.78 - 9.00 µm |
| 每 10 mm 样品厚度的内透过率 [%] | > 99.0 |
| **折射率均匀性 PV @ 633 nm [ppm]** | 3 - 20 |
| **应力双折射 PV @ 633 nm [nm/cm] *** | 1 - 50 |
| **气泡、夹杂物 (ISO 10110-3)** | 1/1 x 0.10(典型值) |